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PCE-44 小型紫外臭氧清洗机

应用范围：PCE-44是一款小型紫外臭氧清洗机，可用于清洗各种单晶基片，以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。

产品型号：PCE-44

上架时间：2019-09-04

安装尺寸：240mm*200mm*165mm

重量：4kg

A^-A⁺

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PCE-44是一款小型紫外臭氧清洗机，可用于清洗各种单晶基片，以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。

性能指标和基本配置
电源	220V 50/60HZ
紫外灯	● UV灯管 ● 功率：55W ● 发出光的波长：波长254nm+185nm ● 使用寿命：6000h小时 ● 照射区域：100 x 100 mm ● 光照强度：4.6 mw/cm2
腔体	● 抽拉盒尺寸: 140mm132mm20mm ● 标配高纯石英片用于盛放样品，避免污染
应用	● 去除分子级别的污染物 ● 紫外光固化粘合剂 ● 紫外光催化 ● 氧化PDMS ● 表面消毒 ● 刻蚀 ● 清洗MEMS 器件 ● 清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片
环境要求	● 仅室内使用; 海拔高度在5,562英尺以内 ● 温度范围41-104华氏度 ● 最大相对湿度80％，最高87华氏度，104华氏度线性降至50％相对湿度 ● 主电源波动不超过标称电压的10％ ● 污染等级2; 臭氧水平（环境）测量<45 ppb
外形尺寸	240mm200mm165mm
净重	4kg
认证	所有电器元件（>24V）都通过UL/MET/CSA/CE认证，若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证。
保修期	一年保修，终身技术支持。特别提示： 1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。点击查看售后服务承诺书。

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实验设备

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