实验设备

● 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
● 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布
● 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命
● 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
● 安装是采用标准真空接头，便于操作
● 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度
● 配有一块铜靶

● 溅射头的直径:46.3mm
● 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
● 靶材的最大厚度: 1/8" (3mm)
● 磁环:NdFeB稀土永磁铁
● 杆的直径: 3/4" O.D.

● DC (最大) 250 W
● RF （最大）100 W

3A

200 - 1,000 V

● 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：
● 功率：直流150W
● 真空环境：10mTorr(Ar)
● 靶材与基片的距离：75mm

● 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
● 本公司会赠送一高真空快速接头
● 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸

● 溅射头相对于杆最大可倾斜+/- 45度
● 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度

● 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L
● 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪

在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：
● 薄膜涂覆
● 半导体器件
● 磁记录介质
● 超导薄膜
● 量子计算器件
● MEMS
● 生物传感器
● 纳米技术
● 超晶格
● 颗粒膜
● 记忆合金
● 组合薄膜沉积
● 光学薄膜